Aixtron und Ohio State University forschen gemeinsam an Galliumoxid-Halbleitern der Zukunft
Nina Pohl
Aixtron und Ohio State University forschen gemeinsam an Galliumoxid-Halbleitern der Zukunft
Aixtron festigt seine Führungsrolle in der Halbleitertechnologie der nächsten Generation durch Partnerschaft mit der Ohio State University (OSU)
Der Halbleiterausrüster Aixtron hat seine Position in der Entwicklung zukunftsweisender Halbleitertechnologien durch eine neue Kooperation mit der Ohio State University (OSU) weiter ausgebaut. Das Unternehmen stellt der Universität sein hochmodernes MOCVD-System (Metallorganische Gasphasenepitaxie) für die Erforschung von Galliumoxid zur Verfügung – ein Material, das die Leistungselektronik revolutionieren könnte. Damit setzt sich Aixtron von Wettbewerbern ab, die sich noch auf ältere Halbleiterwerkstoffe konzentrieren.
Am Institute for Materials and Manufacturing Research der OSU wurde Aixtrons Close Coupled Showerhead® (CCS)-System im Nanotech West Lab installiert. Die spezielle Anlage ermöglicht das Wachstum von Galliumoxid und Aluminium-Galliumoxid auf 100-Millimeter-Substraten. Ihr Design garantiert hochwertige, gleichmäßige Dünnschichten und eignet sich damit ideal für Spitzenforschung im Halbleiterbereich.
Galliumoxid rückt zunehmend in den Fokus, da es im Vergleich zu herkömmlichen Halbleitern extrem hohe Spannungen und Temperaturen aushält. Während auch Einrichtungen wie die Zhejiang-Universität oder die Universität Nagoya sein Potenzial erforschen, unterstreicht die Nutzung von Aixtrons MOCVD-Technologie an der OSU die direkte Zusammenarbeit zwischen Industrie und Wissenschaft. Diese Partnerschaft reiht sich in das globale Interesse ein, das sich unter anderem in der geplanten Internationalen Galliumoxid-Konferenz 2026 zeigt. Bisher gibt es jedoch nur wenige bekannte Anwendungen vergleichbarer MOCVD-Systeme in diesem Bereich.
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Aixtrons frühe Investitionen in Halbleiter mit ultrabreitem Bandabstand verschaffen dem Unternehmen einen klaren Wettbewerbsvorteil. Durch die Bereitstellung von Forschungsinfrastruktur für Galliumoxid festigt das Unternehmen seinen Ruf als führender Anbieter von MOCVD-Technologie. Die Zusammenarbeit mit der OSU stärkt diese Position zusätzlich und sichert Aixtron einen strategischen Vorsprung in einem dynamischen Markt.
Die Partnerschaft zwischen Aixtron und der OSU unterstreicht die wachsende Bedeutung von Galliumoxid für die Leistungselektronik. Mit dem nun einsatzbereiten CCS-System kann die OSU die Entwicklung hochleistungsfähiger Halbleitermaterialien beschleunigen. Aixtrons frühzeitige Ausrichtung auf dieses Feld positioniert das Unternehmen optimal, um von der steigenden Nachfrage nach fortschrittlichen Halbleitern zu profitieren.
